一种化学气相沉积腔室和生产系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422735513.9

申请日：

2024-11-08

公开(公告)号：

CN223522661U

公开(公告)日：

2025-11-07

发明(设计)人：

姚明彩涂飞飞王新胜

申请人：

长江存储科技有限责任公司

申请人地址：

430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

IPC主分类号：

C23C16/44

IPC分类号：

B82Y40/00

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

罗晶瑾;张颖玲

法律状态：

授权

国省代码：

河北省石家庄市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-07	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积腔室 [P].

窦沛静 ;

丁媛 ;

李英英 ;

罗怡蕾 ;

刘鑫 .

中国专利 :CN221971675U ,2024-11-08

[2]

化学气相沉积腔室 [P].

余华华 .

中国专利 :CN110016656A ,2019-07-16

[3]

化学气相沉积优化腔室 [P].

王一喆 ;

岳振明 ;

宫建红 ;

李玉森 ;

高建东 ;

高军 .

中国专利 :CN110241401A ,2019-09-17

[4]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN206127419U ,2017-04-26

[5]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN106498366A ,2017-03-15

[6]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN206646165U ,2017-11-17

[7]

一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统 [P].

张明倩 ;

于金凤 .

中国专利 :CN215517629U ,2022-01-14

[8]

一种MPCVD化学气相沉积系统和MPCVD化学气相沉积方法 [P].

张文聪 ;

杨勇 ;

朱铧丞 .

中国专利 :CN119876916A ,2025-04-25

[9]

一种化学气相沉积装置 [P].

李伟 ;

任建国 ;

岳敏 .

中国专利 :CN205893385U ,2017-01-18

[10]

化学气相沉积室制品 [P].

M·G·V·明斯特 ;

G·宋 .

中国专利 :CN114026263A ,2022-02-08

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