氧化钨溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080013496.X

申请日：

2020-03-12

公开(公告)号：

CN113423859A

公开(公告)日：

2021-09-21

发明(设计)人：

山口刚井尾谦介河村栞里梅本启太

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B35453 H01L21285

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

刁兴利;康泉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-21	公开	公开
2021-10-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20200312

共 50 条

[1]

氧化钨溅射靶 [P].

山口刚 ;

井尾谦介 ;

河村栞里 ;

梅本启太 .

中国专利 :CN113508188A ,2021-10-15

[2]

钨溅射靶以及钨溅射靶的制造方法 [P].

太斋贵文 ;

仙田真一郎 .

日本专利 :CN118222988A ,2024-06-21

[3]

电致变色元件用氧化钨涂料、氧化钨薄膜以及调光部件 [P].

田岛一树 ;

福士大辅 ;

斋藤秀一 .

日本专利 :CN118974645A ,2024-11-15

[4]

钨烧结体溅射靶 [P].

铃木了 ;

小田国博 .

中国专利 :CN102046822B ,2011-05-04

[5]

溅射靶用氧化铬粉末及溅射靶 [P].

高见英生 ;

矢作政隆 .

中国专利 :CN101198716B ,2008-06-11

[6]

氧化镁溅射靶 [P].

梶田博树 ;

涩谷义孝 ;

成田里安 .

中国专利 :CN112805403A ,2021-05-14

[7]

氧化物溅射靶 [P].

山口刚 ;

木内香歩 ;

陆田雄也 .

中国专利 :CN114127029A ,2022-03-01

[8]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

陆田雄也 ;

梅本启太 .

中国专利 :CN114616218A ,2022-06-10

[9]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

野中荘平 ;

森理恵 ;

长尾昌芳 .

中国专利 :CN110352263A ,2019-10-18

[10]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

梅本启太 ;

陆田雄也 ;

白井孝典 ;

井尾谦介 .

中国专利 :CN112567065A ,2021-03-26

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