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一种光刻胶特性参数的测量装置及方法
被引:0
申请号
:
CN202111630550.8
申请日
:
2021-12-28
公开(公告)号
:
CN114324258A
公开(公告)日
:
2022-04-12
发明(设计)人
:
贾辛
刘志祥
刘卫静
谢强
申请人
:
申请人地址
:
610209 四川省成都市双流350信箱
IPC主分类号
:
G01N2159
IPC分类号
:
G01N2101
代理机构
:
北京科迪生专利代理有限责任公司 11251
代理人
:
金怡
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-12
公开
公开
2022-04-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/59 申请日:20211228
共 50 条
[1]
光刻胶的参数检测方法及装置
[P].
钱娟娟
论文数:
0
引用数:
0
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0
钱娟娟
;
马超
论文数:
0
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马超
;
黄胜
论文数:
0
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黄胜
;
徐海涛
论文数:
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0
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0
徐海涛
;
江涛
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0
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0
江涛
;
张慧文
论文数:
0
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0
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0
张慧文
;
齐发
论文数:
0
引用数:
0
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0
齐发
.
中国专利
:CN106053355A
,2016-10-26
[2]
一种光刻胶的制备方法,光刻胶及滤光片
[P].
于晓平
论文数:
0
引用数:
0
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0
于晓平
.
中国专利
:CN108508701A
,2018-09-07
[3]
一种光刻胶瓶及光刻胶装置
[P].
陈阵
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈阵
.
中国专利
:CN115101450A
,2022-09-23
[4]
一种光刻胶的制备方法,光刻胶及滤光片
[P].
于晓平
论文数:
0
引用数:
0
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0
于晓平
.
中国专利
:CN108345175A
,2018-07-31
[5]
一种光刻胶涂布装置
[P].
宫奎
论文数:
0
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0
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0
宫奎
;
段献学
论文数:
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0
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段献学
;
刘天真
论文数:
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刘天真
;
陈程
论文数:
0
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0
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陈程
.
中国专利
:CN106547169A
,2017-03-29
[6]
光刻胶挥发速率测量装置
[P].
秦龙
论文数:
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机构:
儒芯微电子材料(上海)有限公司
儒芯微电子材料(上海)有限公司
秦龙
;
李文哲
论文数:
0
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0
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机构:
儒芯微电子材料(上海)有限公司
儒芯微电子材料(上海)有限公司
李文哲
;
汪武平
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0
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0
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机构:
儒芯微电子材料(上海)有限公司
儒芯微电子材料(上海)有限公司
汪武平
;
耿文练
论文数:
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机构:
儒芯微电子材料(上海)有限公司
儒芯微电子材料(上海)有限公司
耿文练
.
中国专利
:CN220671198U
,2024-03-26
[7]
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法
[P].
论文数:
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机构:
徐宏
;
论文数:
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机构:
何向明
;
刘天棋
论文数:
0
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0
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0
机构:
清华大学
清华大学
刘天棋
.
中国专利
:CN115903376B
,2025-01-14
[8]
一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶
[P].
纪学顺
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
纪学顺
;
蒋志强
论文数:
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
蒋志强
;
马吉全
论文数:
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机构:
万华化学集团股份有限公司
万华化学集团股份有限公司
马吉全
.
中国专利
:CN121135937A
,2025-12-16
[9]
一种光刻胶挥发速率测量装置
[P].
刘会珍
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州欧名欣电子科技有限公司
苏州欧名欣电子科技有限公司
刘会珍
.
中国专利
:CN223565500U
,2025-11-18
[10]
光刻版图、光刻胶图形及测量光刻胶图形曝光误差的方法
[P].
岳力挽
论文数:
0
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0
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岳力挽
;
赵新民
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0
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赵新民
;
周孟兴
论文数:
0
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0
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周孟兴
;
王彩虹
论文数:
0
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0
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王彩虹
.
中国专利
:CN102809895B
,2012-12-05
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