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半导体设备清洗方法及其半导体工艺方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710799686.9
申请日：
2017-09-07
公开(公告)号：
CN109473330A
公开(公告)日：
2019-03-15
发明(设计)人：
不公告发明人
申请人：
申请人地址：
230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
B08B908
B08B700
B08B504
代理机构：
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人：
余明伟
法律状态：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-02-26 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人 变更前:长鑫存储技术有限公司 变更后:长鑫存储技术有限公司 变更事项:地址 变更前:230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室 变更后:230601 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号 |
| 2020-07-03 | 授权 | 授权 |
| 2019-04-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170907 |
| 2019-03-15 | 公开 | 公开 |