有机电子装置的光刻法图案化

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201580053516.5
申请日
2015-07-31
公开(公告)号
CN107112418B
公开(公告)日
2017-08-29
发明(设计)人
约翰·安德鲁·德弗兰科 特伦斯·罗伯特·欧图尔
申请人
申请人地址
美国纽约州
IPC主分类号
H01L5100
IPC分类号
G03F700
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
蔡胜有;高世豪
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
有机电子装置的光刻法图案化 [P]. 
约翰·安德鲁·德弗兰科 ;
特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;
弗兰克·沙维尔·伯恩 ;
黛安娜·卡罗尔·弗里曼 .
中国专利 :CN107112417A ,2017-08-29
[2]
有机电子装置的光刻法图案化 [P]. 
约翰·安德鲁·德弗兰科 ;
特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;
弗兰克·沙维尔·伯恩 ;
黛安娜·卡罗尔·弗里曼 .
中国专利 :CN110459677B ,2019-11-15
[3]
电子装置的光刻图案化 [P]. 
道格拉斯·罗伯特·罗贝洛 ;
特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;
弗兰克·沙维尔·伯恩 ;
黛安娜·卡罗尔·弗里曼 .
中国专利 :CN107251190A ,2017-10-13
[4]
装置的光刻图案化 [P]. 
特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;
约翰·安德鲁·德弗兰科 ;
弗兰克·沙维尔·伯恩 .
中国专利 :CN107112440B ,2017-08-29
[5]
包括金属图案化层的有机电气元件及其电子装置 [P]. 
吴暻焕 ;
李重槿 ;
俞在德 ;
李善希 ;
郑愿俊 .
韩国专利 :CN119488006A ,2025-02-18
[6]
光刻图案化的方法 [P]. 
赖韦翰 ;
王建惟 ;
林进祥 .
中国专利 :CN108227409B ,2018-06-29
[7]
光刻图案化的方法 [P]. 
张莉琳 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN108333866B ,2018-07-27
[8]
光刻图案化的方法 [P]. 
陈彦豪 ;
赖韦翰 ;
王建惟 ;
林进祥 .
中国专利 :CN108121154A ,2018-06-05
[9]
有机电子装置的制造方法和有机电子装置 [P]. 
E·K·M·京特 ;
K·霍伊泽尔 ;
G·维特曼 .
中国专利 :CN1842925A ,2006-10-04
[10]
制造有机电子装置的方法及有机电子装置 [P]. 
汉斯·克勒曼 ;
亚历山大·扎希多夫 ;
比约恩·吕塞姆 ;
卡尔·利奥 .
中国专利 :CN105247696B ,2016-01-13