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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010054768.2
申请日
:
2020-01-17
公开(公告)号
:
CN111524974A
公开(公告)日
:
2020-08-11
发明(设计)人
:
吴伟成
亚历山大·卡尔尼斯基
罗仕豪
柯弘彬
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L2945
H01L21336
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
薛恒;王琳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-09-04
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20200117
2020-08-11
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
张青淳
论文数:
0
引用数:
0
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0
张青淳
.
中国专利
:CN108346577B
,2018-07-31
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
服卷直美
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服卷直美
;
加藤芳健
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加藤芳健
;
井上显
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井上显
.
中国专利
:CN100388498C
,2006-01-25
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
王文生
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王文生
.
中国专利
:CN101253620B
,2008-08-27
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
井上真雄
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井上真雄
.
中国专利
:CN109786449A
,2019-05-21
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
新川田裕树
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新川田裕树
.
中国专利
:CN102610611A
,2012-07-25
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
白贤锡
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白贤锡
;
李银河
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李银河
;
丁炫硕
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丁炫硕
;
韩成基
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韩成基
;
梁旼镐
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梁旼镐
.
中国专利
:CN1996614A
,2007-07-11
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
吉田哲也
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吉田哲也
.
中国专利
:CN109585565A
,2019-04-05
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
张海洋
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张海洋
;
韩秋华
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韩秋华
;
杜珊珊
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杜珊珊
;
韩宝东
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韩宝东
.
中国专利
:CN101197285A
,2008-06-11
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
水岛一郎
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水岛一郎
;
甲斐彻哉
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甲斐彻哉
;
小泽良夫
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小泽良夫
;
村冈浩一
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村冈浩一
;
中村新一
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中村新一
.
中国专利
:CN1713384A
,2005-12-28
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
水谷齐治
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水谷齐治
;
井上真雄
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井上真雄
;
梅田浩司
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梅田浩司
;
门岛胜
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门岛胜
.
中国专利
:CN104425576A
,2015-03-18
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