用于化学机械平坦化系统的有孔修整刷

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680038967.2

申请日：

2006-10-19

公开(公告)号：

CN101291777A

公开(公告)日：

2008-10-22

发明(设计)人：

斯蒂文·J·贝纳

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

B24B900

IPC分类号：

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司

代理人：

霍育栋;郑霞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101075677119 IPC(主分类):B24B 9/00 专利申请号:2006800389672 公开日:20081022
2008-10-22	公开	公开

共 50 条

[1]

用于化学机械平坦化的修整工具和技术 [P].

T·普萨纳甘达 ;

黄太郁 ;

S·拉马纳坦 ;

E·舒尔策 ;

J·G·巴尔多尼 ;

S·布利简 ;

C·迪恩-恩戈克 .

中国专利 :CN103252722A ,2013-08-21

[2]

用于化学机械平坦化的修整工具和技术 [P].

T·普萨纳甘达 ;

黄太郁 ;

S·拉马纳坦 ;

E·舒尔策 ;

J·G·巴尔多尼 ;

S·布利简 ;

C·迪恩-恩戈克 .

中国专利 :CN101563188A ,2009-10-21

[3]

化学机械平坦化系统以及垫修整轮 [P].

黄君席 .

中国专利 :CN110524413A ,2019-12-03

[4]

化学机械平坦化系统 [P].

陈世忠 ;

林奕劭 ;

彭升泰 ;

薛雅仁 ;

陈鸿霖 ;

李仁铎 .

中国专利 :CN111230731A ,2020-06-05

[5]

抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN110871407A ,2020-03-10

[6]

用于线性化学机械平坦化系统的有槽滚轮 [P].

许苍山 .

中国专利 :CN1607992A ,2005-04-20

[7]

化学机械平坦化垫的修整器及其相关方法 [P].

R·蒂瓦里 ;

C·苏里亚加 ;

B·阿灵顿 ;

P·多林 ;

A·A·加尔平 .

中国专利 :CN112135709A ,2020-12-25

[8]

化学机械平坦化（CMP）抛光垫修整器及制造方法 [P].

J·吴 ;

E·M·舒勒 ;

S·拉曼斯 ;

A·K·卡伍德 .

中国专利 :CN103299402A ,2013-09-11

[9]

用于控制化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114633201A ,2022-06-17

[10]

用于化学机械平坦化应用的粘合剂 [P].

J·M·博格纳 ;

D-T·赫塞 .

中国专利 :CN107849404A ,2018-03-27

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