化学机械平坦化系统以及垫修整轮

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910313113.X

申请日：

2019-04-18

公开(公告)号：

CN110524413A

公开(公告)日：

2019-12-03

发明(设计)人：

黄君席

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

B24B3734

IPC分类号：

B24B5312

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

聂慧荃;闫华

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-03	公开	公开
2021-11-02	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B 37/34 申请公布日:20191203

共 50 条

[1]

化学机械平坦化系统以及方法 [P].

赵誉翔 ;

雷启彬 .

中国专利 :CN110774164A ,2020-02-11

[2]

抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN110871407A ,2020-03-10

[3]

化学机械平坦化垫的修整器及其相关方法 [P].

R·蒂瓦里 ;

C·苏里亚加 ;

B·阿灵顿 ;

P·多林 ;

A·A·加尔平 .

中国专利 :CN112135709A ,2020-12-25

[4]

化学机械平坦化系统 [P].

陈世忠 ;

林奕劭 ;

彭升泰 ;

薛雅仁 ;

陈鸿霖 ;

李仁铎 .

中国专利 :CN111230731A ,2020-06-05

[5]

用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具 [P].

C·迪恩-古兹 ;

S·拉曼斯 ;

E·M·舒勒 ;

J·吴 ;

T·珀坦纳恩加迪 ;

R·维达塔姆 ;

T·黄 .

中国专利 :CN102341215B ,2012-02-01

[6]

用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具 [P].

C·迪恩-古兹 ;

S·拉曼斯 ;

E·M·舒勒 ;

J·吴 ;

T·珀坦纳恩加迪 ;

R·维达塔姆 ;

T·黄 .

中国专利 :CN103962943A ,2014-08-06

[7]

化学机械平坦化（CMP）抛光垫修整器及制造方法 [P].

J·吴 ;

E·M·舒勒 ;

S·拉曼斯 ;

A·K·卡伍德 .

中国专利 :CN103299402A ,2013-09-11

[8]

用于化学机械平坦化组合件的垫修整器和垫修整器组合件 [P].

D·耶内尔 ;

C·苏里亚加 ;

J·索萨 ;

L·厄乌尔 ;

J·里韦尔斯 ;

E·巴卢 .

美国专利 :CN113661031B ,2024-05-07

[9]

具有平坦化尖端的化学机械研磨垫修整器 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN103329253B ,2013-09-25

[10]

用于化学机械平坦化系统的有孔修整刷 [P].

斯蒂文·J·贝纳 .

中国专利 :CN101291777A ,2008-10-22

← 1 2 3 4 5 →