用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410198642.7

申请日：

2009-12-31

公开(公告)号：

CN103962943A

公开(公告)日：

2014-08-06

发明(设计)人：

C·迪恩-古兹 S·拉曼斯 E·M·舒勒 J·吴 T·珀坦纳恩加迪 R·维达塔姆 T·黄

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

B24B3734

IPC分类号：

B24B53017

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

章蕾

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-07	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101742850160 IPC(主分类):B24B 37/34 专利申请号:2014101986427 申请公布日:20140806
2014-09-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101586670454 IPC(主分类):B24B 37/34 专利申请号:2014101986427 申请日:20091231
2014-08-06	公开	公开

共 50 条

[1]

用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具 [P].

C·迪恩-古兹 ;

S·拉曼斯 ;

E·M·舒勒 ;

J·吴 ;

T·珀坦纳恩加迪 ;

R·维达塔姆 ;

T·黄 .

中国专利 :CN102341215B ,2012-02-01

[2]

具有平坦化尖端的化学机械研磨垫修整器 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN103329253B ,2013-09-25

[3]

抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN110871407A ,2020-03-10

[4]

化学机械平坦化垫的修整器及其相关方法 [P].

R·蒂瓦里 ;

C·苏里亚加 ;

B·阿灵顿 ;

P·多林 ;

A·A·加尔平 .

中国专利 :CN112135709A ,2020-12-25

[5]

化学机械平坦化（CMP）抛光垫修整器及制造方法 [P].

J·吴 ;

E·M·舒勒 ;

S·拉曼斯 ;

A·K·卡伍德 .

中国专利 :CN103299402A ,2013-09-11

[6]

化学机械平坦化系统以及垫修整轮 [P].

黄君席 .

中国专利 :CN110524413A ,2019-12-03

[7]

用于化学机械平坦化的修整工具和技术 [P].

T·普萨纳甘达 ;

黄太郁 ;

S·拉马纳坦 ;

E·舒尔策 ;

J·G·巴尔多尼 ;

S·布利简 ;

C·迪恩-恩戈克 .

中国专利 :CN103252722A ,2013-08-21

[8]

用于化学机械平坦化的修整工具和技术 [P].

T·普萨纳甘达 ;

黄太郁 ;

S·拉马纳坦 ;

E·舒尔策 ;

J·G·巴尔多尼 ;

S·布利简 ;

C·迪恩-恩戈克 .

中国专利 :CN101563188A ,2009-10-21

[9]

用于化学机械平坦化组合件的垫修整器和垫修整器组合件 [P].

D·耶内尔 ;

C·苏里亚加 ;

J·索萨 ;

L·厄乌尔 ;

J·里韦尔斯 ;

E·巴卢 .

美国专利 :CN113661031B ,2024-05-07

[10]

化学机械研磨抛光垫修整器 [P].

王晓靁 ;

刘伯彦 .

中国专利 :CN106002632A ,2016-10-12

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