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用于化学机械平坦化组合件的垫修整器和垫修整器组合件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080027277.7
申请日
:
2020-04-08
公开(公告)号
:
CN113661031B
公开(公告)日
:
2024-05-07
发明(设计)人
:
D·耶内尔
C·苏里亚加
J·索萨
L·厄乌尔
J·里韦尔斯
E·巴卢
申请人
:
恩特格里斯公司
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
B24B53/017
IPC分类号
:
B24B53/12
H01L21/67
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
李婷
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-07
授权
授权
共 50 条
[1]
抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法
[P].
宋健民
论文数:
0
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0
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宋健民
.
中国专利
:CN110871407A
,2020-03-10
[2]
化学机械平坦化垫的修整器及其相关方法
[P].
R·蒂瓦里
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R·蒂瓦里
;
C·苏里亚加
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C·苏里亚加
;
B·阿灵顿
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B·阿灵顿
;
P·多林
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P·多林
;
A·A·加尔平
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A·A·加尔平
.
中国专利
:CN112135709A
,2020-12-25
[3]
CMP垫修整组合件
[P].
P·多林
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P·多林
;
A·加尔平
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A·加尔平
;
R·蒂瓦里
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R·蒂瓦里
.
中国专利
:CN109922924A
,2019-06-21
[4]
用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具
[P].
C·迪恩-古兹
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C·迪恩-古兹
;
S·拉曼斯
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S·拉曼斯
;
E·M·舒勒
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E·M·舒勒
;
J·吴
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J·吴
;
T·珀坦纳恩加迪
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T·珀坦纳恩加迪
;
R·维达塔姆
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R·维达塔姆
;
T·黄
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T·黄
.
中国专利
:CN102341215B
,2012-02-01
[5]
用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具
[P].
C·迪恩-古兹
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C·迪恩-古兹
;
S·拉曼斯
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S·拉曼斯
;
E·M·舒勒
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E·M·舒勒
;
J·吴
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J·吴
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T·珀坦纳恩加迪
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T·珀坦纳恩加迪
;
R·维达塔姆
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R·维达塔姆
;
T·黄
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T·黄
.
中国专利
:CN103962943A
,2014-08-06
[6]
化学机械平坦化系统以及垫修整轮
[P].
黄君席
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黄君席
.
中国专利
:CN110524413A
,2019-12-03
[7]
具有平坦化尖端的化学机械研磨垫修整器
[P].
宋健民
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宋健民
.
中国专利
:CN103329253B
,2013-09-25
[8]
化学机械平坦化(CMP)抛光垫修整器及制造方法
[P].
J·吴
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J·吴
;
E·M·舒勒
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E·M·舒勒
;
S·拉曼斯
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S·拉曼斯
;
A·K·卡伍德
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A·K·卡伍德
.
中国专利
:CN103299402A
,2013-09-11
[9]
一种抛光垫修整器及化学机械平坦化设备
[P].
崔凯
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崔凯
;
岳爽
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岳爽
;
李欢
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李欢
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李婷
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李婷
;
蒋锡兵
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蒋锡兵
;
李岩
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李岩
;
景允伸
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景允伸
.
中国专利
:CN112077742A
,2020-12-15
[10]
化学机械研磨抛光垫修整器
[P].
王晓靁
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王晓靁
;
刘伯彦
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刘伯彦
.
中国专利
:CN106002632A
,2016-10-12
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