用于抛光铜的组合物和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410092968.8

申请日：

2004-11-12

公开(公告)号：

CN1629238A

公开(公告)日：

2005-06-22

发明(设计)人：

T·M·托马斯 J·K·苏

申请人：

申请人地址：

美国特拉华

IPC主分类号：

C09G116

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

蔡胜有

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-12-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-05-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2005-06-22	公开	公开

共 50 条

[1]

用于铜的低下压力抛光的组合物和方法 [P].

W·B·戈德堡 ;

F·J·凯利 ;

J·匡西 ;

J·K·索 ;

T·M·托马斯 ;

王红雨 .

中国专利 :CN1644644A ,2005-07-27

[2]

用于铜的受控抛光的组合物和方法 [P].

J·G·阿梅恩 ;

R·L·小拉瓦伊 ;

J·匡西 ;

J·K·索 ;

T·M·托马斯 ;

叶倩萩 .

中国专利 :CN1644640A ,2005-07-27

[3]

使用无机氧化物磨料提高铜的平面化的组合物和方法 [P].

T·M·托马斯 .

中国专利 :CN101121865A ,2008-02-13

[4]

化学机械抛光组合物及有关的方法 [P].

F·J·凯勒 ;

J·匡西 ;

J·K·索 ;

王红雨 .

中国专利 :CN1715311A ,2006-01-04

[5]

化学机械抛光组合物及有关的方法 [P].

F·J·凯勒 ;

J·匡西 ;

J·K·索 ;

王红雨 .

中国专利 :CN1715310A ,2006-01-04

[6]

不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法 [P].

T·高希 ;

R·D·所罗门 ;

王红雨 .

中国专利 :CN100362068C ,2006-06-07

[7]

低污染抛光组合物 [P].

T·M·托马斯 ;

王红雨 .

中国专利 :CN101525522A ,2009-09-09

[8]

抛光浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

金伦秀 .

中国专利 :CN114644889A ,2022-06-21

[9]

用于高效清洁/抛光半导体晶片的组合物和方法 [P].

迈克尔·B·科岑斯基 ;

许从应 ;

托马斯·H·鲍姆 ;

大卫·明塞克 ;

埃利奥多·G·根丘 .

中国专利 :CN1871333A ,2006-11-29

[10]

抛光浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

金伦秀 .

韩国专利 :CN114644889B ,2024-03-12

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