湿蚀刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810764873.8

申请日：

2018-07-12

公开(公告)号：

CN109166809A

公开(公告)日：

2019-01-08

发明(设计)人：

王建刚

申请人：

申请人地址：

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

深圳市德力知识产权代理事务所 44265

代理人：

林才桂

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-08	公开	公开
2021-11-26	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20190108
2020-12-25	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/67 变更事项:申请人变更前:深圳市华星光电技术有限公司变更后:TCL华星光电技术有限公司变更事项:地址变更前:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号变更后:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

共 50 条

[1]

湿蚀刻设备及湿蚀刻方法 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

邱立峰 .

中国专利 :CN1797221B ,2006-07-05

[2]

湿蚀刻设备 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

邱立峰 .

中国专利 :CN2763268Y ,2006-03-08

[3]

湿蚀刻设备 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

黄昌桂 ;

陈青枫 ;

黄志鸿 .

中国专利 :CN100419121C ,2005-11-16

[4]

蚀刻设备 [P].

李玟澄 ;

陈麒文 ;

朱德铭 .

中国专利 :CN201381279Y ,2010-01-13

[5]

蚀刻设备 [P].

谢学明 .

中国专利 :CN218262298U ,2023-01-10

[6]

蚀刻设备 [P].

李玟澄 ;

陈麒文 ;

朱德铭 .

中国专利 :CN201381280Y ,2010-01-13

[7]

一种用于湿蚀刻的蚀刻设备 [P].

郑庆靓 ;

汤茂林 ;

刘贵福 ;

盛冬冬 .

中国专利 :CN220907657U ,2024-05-07

[8]

一种湿蚀刻设备 [P].

陈睿 ;

黄于维 ;

林志明 .

中国专利 :CN103526205A ,2014-01-22

[9]

一种湿蚀刻设备 [P].

欧阳志升 ;

陈建同 ;

姚洋羽 ;

廖钦盛 .

中国专利 :CN201520802U ,2010-07-07

[10]

湿蚀刻装置及方法 [P].

郑文达 .

中国专利 :CN102315092A ,2012-01-11

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