光处理装置和基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711305669.1

申请日：

2017-12-11

公开(公告)号：

CN108227398A

公开(公告)日：

2018-06-29

发明(设计)人：

守屋光彦友野胜嶋田谅早川诚永原诚司

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20171211
2021-08-10	授权	授权
2018-06-29	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

森川胜洋 ;

饱本正巳 .

日本专利 :CN111755358B ,2025-03-21

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

森川胜洋 ;

饱本正巳 .

中国专利 :CN111755358A ,2020-10-09

[3]

闸阀和基板处理装置 [P].

田中诚治 ;

出口新悟 .

中国专利 :CN104514891B ,2015-04-15

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

饭塚建次 ;

饭田成昭 .

中国专利 :CN106252196B ,2016-12-21

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

李镐勋 ;

张容硕 .

韩国专利 :CN118016553A ,2024-05-10

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

西山耕二 ;

井上和宏 .

中国专利 :CN107785288B ,2018-03-09

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

饭塚建次 ;

饭田成昭 .

中国专利 :CN112255889A ,2021-01-22

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

大宅宗明 ;

三林武 ;

森井敬亮 .

日本专利 :CN116631923B ,2024-08-13

[9]

基板处理装置、基板处理方法和存储介质 [P].

井关智弘 ;

田中启一 .

中国专利 :CN109285763A ,2019-01-29

[10]

基板处理装置和基板处理装置的处理方法 [P].

天野嘉文 ;

守田聪 ;

池边亮二 ;

宫本勲武 .

中国专利 :CN107275201A ,2017-10-20

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