光刻机控制系统以及控制方法

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申请号
CN202110344764.2
申请日
2021-03-29
公开(公告)号
CN115128910A
公开(公告)日
2022-09-30
发明(设计)人
马鹏川 吴卫军 杨元培
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张东路1525号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
郑星
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光刻机控制系统以及控制方法 [P]. 
马鹏川 ;
吴卫军 ;
杨元培 .
中国专利 :CN115128910B ,2025-06-17
[2]
光刻机控制系统和方法 [P]. 
王伟 ;
李蒙 .
中国专利 :CN110874020A ,2020-03-10
[3]
光刻机的污染控制系统、方法和光刻机 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
沙鹏飞 ;
罗艳 ;
谢婉露 ;
李慧 ;
韩晓泉 .
中国专利 :CN114280893A ,2022-04-05
[4]
光刻机控制系统 [P]. 
霍志军 ;
周权 ;
潘菊凤 ;
陈建民 .
中国专利 :CN101581886A ,2009-11-18
[5]
光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备 [P]. 
林启群 .
中国专利 :CN113534616A ,2021-10-22
[6]
光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备 [P]. 
林启群 .
中国专利 :CN113534616B ,2024-03-26
[7]
干扰抑制方法及光刻机控制系统 [P]. 
罗先刚 ;
班斐 ;
刘明刚 .
中国专利 :CN117826542A ,2024-04-05
[8]
光刻机的电机控制方法和电机控制系统 [P]. 
张琪 ;
符友银 .
中国专利 :CN118763926A ,2024-10-11
[9]
直写式光刻机曝光控制系统 [P]. 
王正宏 .
中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11
[10]
光刻机可变狭缝的控制方法、系统以及光刻机 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
金建 .
中国专利 :CN120276220A ,2025-07-08