磁控管溅镀装置和方法

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专利类型
发明
申请号
CN02160604.8
申请日
2002-11-30
公开(公告)号
CN1500908A
公开(公告)日
2004-06-02
发明(设计)人
瑟吉·Y·纳瓦拉 马东俊 金泰完
申请人
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
北京市柳沈律师事务所
代理人
李晓舒;魏晓刚
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
磁控管溅镀电极以及配置有磁控管溅镀电极的溅镀装置 [P]. 
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[4]
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[6]
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[7]
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[10]
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