磁控管控制方法、磁控管控制装置和磁控溅射设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810659504.2

申请日：

2018-06-25

公开(公告)号：

CN110629173B

公开(公告)日：

2019-12-31

发明(设计)人：

兰玥侯珏宿晓敖赵崇军

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;姜春咸

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20180625
2021-12-17	授权	授权
2019-12-31	公开	公开

共 50 条

[1]

磁控溅射设备及磁控管控制方法 [P].

陈春伟 ;

夏威 ;

李杨超 .

中国专利 :CN103422065B ,2013-12-04

[2]

磁控管装置和磁控溅射设备 [P].

陈媛媛 ;

王磊 .

中国专利 :CN121109967A ,2025-12-12

[3]

磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备 [P].

杨玉杰 ;

罗建恒 ;

耿波 ;

张同文 .

中国专利 :CN107154330A ,2017-09-12

[4]

磁控管及磁控溅射设备 [P].

耿波 ;

罗建恒 ;

王磊 ;

杨玉杰 ;

杨帆 ;

陈鑫 ;

寇旭亮 ;

王大男 ;

王厚工 .

中国专利 :CN210420141U ,2020-04-28

[5]

磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备 [P].

李杨超 ;

王厚工 ;

耿波 ;

吕峰 .

中国专利 :CN103887130B ,2014-06-25

[6]

磁控管装置及磁控溅射设备 [P].

郭浩 ;

王厚工 ;

李冬冬 ;

佘清 ;

杨玉杰 ;

刘学滨 .

中国专利 :CN114774872A ,2022-07-22

[7]

磁控管装置及磁控溅射设备 [P].

李强 ;

王磊 .

中国专利 :CN115305454A ,2022-11-08

[8]

磁控管以及磁控管溅射设备 [P].

李宰承 ;

西门瑄 ;

吴永泽 ;

刘云锺 .

中国专利 :CN103882394B ,2014-06-25

[9]

一种磁控管的设计方法、磁控管和磁控溅射设备 [P].

丁继华 ;

杨玉杰 .

中国专利 :CN120162839A ,2025-06-17

[10]

磁控管溅射方法以及磁控管溅射装置 [P].

太田淳 ;

田口信一郎 ;

杉浦功 ;

谷典明 ;

新井真 ;

清田淳也 .

中国专利 :CN1965101A ,2007-05-16

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