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等离子体氧化处理方法、等离子体处理装置和存储介质

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200780036402.5
申请日：
2007-09-27
公开(公告)号：
CN101523576A
公开(公告)日：
2009-09-02
发明(设计)人：
盐泽俊彦 壁义郎 小林岳志 北川淳一 伊佐和裕
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21316
IPC分类号：
H01L2176 H01L2978
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人：
龙 淳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2009-09-02 公开 公开
2009-10-28 实质审查的生效 实质审查的生效
2012-10-03 授权 授权
共 50 条
[1]
等离子体氧化处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
盐泽俊彦 ;
壁义郎 ;
小林岳志 ;
足立光 ;
北川淳一 ;
山本伸彦 .
中国专利 :CN101523575B ,2009-09-02
[2]
等离子体氧化处理方法、存储介质和等离子体处理装置 [P]. 
小林岳志 ;
北川淳一 ;
壁义郎 ;
盐泽俊彦 .
中国专利 :CN101523574A ,2009-09-02
[3]
等离子体氧化处理方法 [P]. 
堀胜 ;
盐泽俊彦 ;
壁义郎 ;
北川淳一 .
中国专利 :CN101405846A ,2009-04-08
[4]
等离子体氧化处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
壁义郎 ;
小林岳志 ;
盐泽俊彦 ;
北川淳一 .
中国专利 :CN101652842B ,2010-02-17
[5]
等离子体处理装置、等离子体处理方法和存储介质 [P]. 
山涌纯 .
中国专利 :CN107452612A ,2017-12-08
[6]
等离子体处理装置、等离子体处理方法和存储介质 [P]. 
松土龙夫 ;
桧森慎司 ;
今井范章 ;
大瀬刚 ;
阿部淳 ;
胜沼隆幸 .
中国专利 :CN101370349A ,2009-02-18
[7]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
李诚泰 ;
土桥和也 .
中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
东条利洋 ;
藤井祐希 .
中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
堀口贵弘 ;
冈信介 .
中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
金子和史 .
中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08
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