硅单晶片抛光设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420861536.8

申请日：

2014-12-31

公开(公告)号：

CN204382057U

公开(公告)日：

2015-06-10

发明(设计)人：

唐玉金朱世法杨雪林李建霜帅东清

申请人：

申请人地址：

650000 云南省昆明市人民中路

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B3716

代理机构：

昆明祥和知识产权代理有限公司 53114

代理人：

董昆生

法律状态：

专利权质押合同登记的生效、变更及注销

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-01	专利权质押合同登记的生效、变更及注销	专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):B24B 37/10 登记号:Y2022530000004 登记生效日:20220114 出质人:昆明云锗高新技术有限公司质权人:云南红塔银行股份有限公司实用新型名称:硅单晶片抛光设备申请日:20141231 授权公告日:20150610
2015-06-10	授权	授权

共 50 条

[1]

硅单晶片抛光方法 [P].

林涛 ;

邹晓明 ;

周小勇 ;

方正华 ;

陈建纲 .

中国专利 :CN104742003A ,2015-07-01

[2]

硅单晶片贴带装置 [P].

赵广文 .

中国专利 :CN2199596Y ,1995-05-31

[3]

硅单晶制造方法、硅单晶和晶片 [P].

中居克彦 ;

大久保正道 .

中国专利 :CN103282555A ,2013-09-04

[4]

硅单晶片加工新工艺 [P].

唐玉金 ;

朱世法 ;

杨雪林 ;

李建霜 ;

帅东清 .

中国专利 :CN103639879A ,2014-03-19

[5]

IGBT用硅单晶片和IGBT用硅单晶片的制造方法 [P].

小野敏昭 ;

梅野繁 ;

杉村涉 ;

宝来正隆 .

中国专利 :CN101054721A ,2007-10-17

[6]

一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用 [P].

孔慧 ;

刘卫丽 ;

宋志堂 ;

汪海波 .

中国专利 :CN102391787B ,2012-03-28

[7]

一种用于硅单晶片的酸洗机 [P].

王世江 ;

吴启宝 .

中国专利 :CN217165706U ,2022-08-12

[8]

硅单晶制造方法和硅晶片生产设备 [P].

D.维尔斯特雷腾 .

中国专利 :CN108431306A ,2018-08-21

[9]

硅单晶片的残余应力的测试方法 [P].

徐永平 ;

刘剑 .

中国专利 :CN102435361B ,2012-05-02

[10]

硅单晶的生产方法及装置、硅单晶和硅半导体晶片 [P].

维尔弗里德·冯·安蒙 ;

贾尼斯·维尔布利斯 ;

马丁·韦伯 ;

托马斯·韦策尔 ;

赫伯特·施密特 .

中国专利 :CN100374628C ,2004-10-27

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