用于透明导电氧化层的蚀刻介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410640078.X

申请日：

2006-07-03

公开(公告)号：

CN104496192A

公开(公告)日：

2015-04-08

发明(设计)人：

A·库贝尔贝克 W·斯托库姆

申请人：

申请人地址：

德国达姆施塔特

IPC主分类号：

C03C1500

IPC分类号：

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

张雪珍;林柏楠

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-05-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101608392333 IPC(主分类):C03C 15/00 专利申请号:201410640078X 申请日:20060703
2015-04-08	公开	公开
2017-12-12	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C03C 15/00 申请公布日:20150408

共 50 条

[1]

用于透明导电氧化层的蚀刻介质 [P].

A·库贝尔贝克 ;

W·斯托库姆 .

中国专利 :CN101228097A ,2008-07-23

[2]

氧化物透明导电层的蚀刻介质 [P].

W·斯托库姆 ;

A·库贝尔贝克 .

中国专利 :CN101208277A ,2008-06-25

[3]

用于蚀刻透明和导电氧化物层的可印刷介质 [P].

W·斯托库姆 ;

A·库拜尔贝克 .

中国专利 :CN101600779B ,2009-12-09

[4]

用于金属及金属氧化物透明导电层的蚀刻膏及蚀刻工艺 [P].

张林 .

中国专利 :CN101717645A ,2010-06-02

[5]

透明导电膜蚀刻剂 [P].

李锡重 ;

朴忠雨 ;

李泰亨 .

中国专利 :CN102177219A ,2011-09-07

[6]

用于包含银纳米线的透明导电层的蚀刻组合物 [P].

王海量 .

中国专利 :CN107557786A ,2018-01-09

[7]

透明导电层和包括该透明导电层的透明电极 [P].

方晸湜 ;

张贤佑 ;

林振炯 .

中国专利 :CN102165559A ,2011-08-24

[8]

用于氧化铟层的蚀刻剂组合物 [P].

金泰完 ;

安基熏 ;

李昔准 .

中国专利 :CN110484258A ,2019-11-22

[9]

氧化锌基透明导电膜玻璃的制备方法 [P].

金良茂 ;

王芸 ;

倪嘉 ;

王萍萍 ;

操芳芳 .

中国专利 :CN104310789A ,2015-01-28

[10]

糙化透明导电基板的制造方法 [P].

李炳寰 ;

郭镇维 .

中国专利 :CN103227232A ,2013-07-31

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