氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680000046.7

申请日：

2006-01-24

公开(公告)号：

CN100588698C

公开(公告)日：

2007-07-25

发明(设计)人：

鲁埈硕吴明焕金长烈金钟泌曹升范

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京金信立方知识产权代理有限公司

代理人：

朱梅;徐志明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-07-25	公开	公开
2010-02-10	授权	授权

共 50 条

[1]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1245471C ,2004-09-01

[2]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1282226C ,1999-11-17

[3]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN101649182A ,2010-02-17

[4]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1935927B ,2007-03-28

[5]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1526786A ,2004-09-08

[6]

再生研磨剂浆料的制备方法和研磨剂浆料 [P].

高桥笃 ;

前泽明弘 ;

月形扶美子 ;

沟口启介 .

中国专利 :CN115305056A ,2022-11-08

[7]

铈系研磨剂 [P].

茅根环司 ;

宫冈清二 .

中国专利 :CN101885959A ,2010-11-17

[8]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN107199502A ,2017-09-26

[9]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN105368397A ,2016-03-02

[10]

研磨剂、研磨剂的制造方法以及研磨方法 [P].

竹宫聪 ;

中泽伯人 ;

金喜则 .

中国专利 :CN1306562C ,2005-01-26

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