氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN97199370.X

申请日：

1997-09-30

公开(公告)号：

CN1282226C

公开(公告)日：

1999-11-17

发明(设计)人：

吉田诚人芦泽寅之助寺崎裕树仓田靖松泽纯丹野清仁大槻裕人

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

C09K314

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司

代理人：

郝庆芬

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-31	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:19970930 授权公告日:20061025
2006-10-25	授权	授权
2007-01-17	发明专利说明书更正	发明专利说明书更正更正号:43 页码:扉页更正项目:优先权(增加第10、11、12项) 误:少项卷:22 正:1997.01.28 JP 014371/97\|1997.04.30 JP 112396/97\|1997.08.01 JP 207866/97
1999-11-17	公开	公开
1999-11-24	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1245471C ,2004-09-01

[2]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN101649182A ,2010-02-17

[3]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1935927B ,2007-03-28

[4]

氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 [P].

吉田诚人 ;

芦泽寅之助 ;

寺崎裕树 ;

仓田靖 ;

松泽纯 ;

丹野清仁 ;

大槻裕人 .

中国专利 :CN1526786A ,2004-09-08

[5]

氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料 [P].

鲁埈硕 ;

吴明焕 ;

金长烈 ;

金钟泌 ;

曹升范 .

中国专利 :CN100588698C ,2007-07-25

[6]

铈盐、其制造方法、氧化铈以及铈系研磨剂 [P].

茅根环司 ;

宫冈清二 .

中国专利 :CN1849264A ,2006-10-18

[7]

CMP研磨剂及基板的研磨方法 [P].

芳贺浩二 ;

大槻裕人 ;

仓田靖 ;

榎本和宏 .

中国专利 :CN1982401B ,2007-06-20

[8]

CMP研磨剂及基板的研磨方法 [P].

芳贺浩二 ;

大槻裕人 ;

仓田靖 ;

榎本和宏 .

中国专利 :CN100339954C ,2005-09-28

[9]

CMP研磨剂及基板的研磨方法 [P].

芳贺浩二 ;

大槻裕人 ;

仓田靖 ;

榎本和宏 .

中国专利 :CN101029214A ,2007-09-05

[10]

铈系研磨剂 [P].

茅根环司 ;

宫冈清二 .

中国专利 :CN101885959A ,2010-11-17

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