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粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置
被引:0
申请号
:
CN202180015744.9
申请日
:
2021-02-19
公开(公告)号
:
CN115135738A
公开(公告)日
:
2022-09-30
发明(设计)人
:
水野瑞穗
田中亚树子
小坂尚史
中村恒三
申请人
:
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
C09J738
IPC分类号
:
B32B2730
C09J13304
C09J16702
G02B502
B32B7023
B32B330
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
王利波
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-09-30
公开
公开
共 50 条
[1]
粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置
[P].
水野瑞穗
论文数:
0
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0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
小坂尚史
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
小坂尚史
;
中村恒三
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN115135738B
,2025-02-18
[2]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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水野瑞穗
;
田中亚树子
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田中亚树子
;
中村恒三
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中村恒三
.
中国专利
:CN115151620A
,2022-10-04
[3]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
中村恒三
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN118421225A
,2024-08-02
[4]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
中村恒三
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN115151620B
,2024-04-09
[5]
光学层叠体、光学装置、光学层叠体的制造方法
[P].
铃木达也
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
铃木达也
;
沟端香
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
沟端香
;
新家香织
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
新家香织
;
本田哲士
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
本田哲士
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
石黑繁树
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
石黑繁树
.
日本专利
:CN118176454A
,2024-06-11
[6]
光学层叠体以及光学层叠体的制造方法
[P].
八木汐海
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
八木汐海
;
山下智弘
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
山下智弘
;
西条幸雄
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
西条幸雄
;
增田有花
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
增田有花
.
日本专利
:CN120539862A
,2025-08-26
[7]
层叠体、光学构件、光学装置以及层叠体的制造方法
[P].
滨田千绘
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
滨田千绘
;
杉野晶子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
杉野晶子
;
松野康司
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
松野康司
.
日本专利
:CN120858029A
,2025-10-28
[8]
光学层叠体的制造方法、粘接剂涂敷装置及光学层叠体的制造装置
[P].
山崎达也
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山崎达也
;
小川敏弘
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0
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0
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0
小川敏弘
;
植敷大地
论文数:
0
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植敷大地
.
中国专利
:CN114423598A
,2022-04-29
[9]
光学层叠体、及带有粘合层的光学层叠体的制造方法
[P].
名田敬之
论文数:
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0
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名田敬之
.
中国专利
:CN110275234B
,2019-09-24
[10]
光学层叠体、光学层叠体的制造方法以及光信息传递装置
[P].
青野晓史
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
青野晓史
;
村松昭宏
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机构:
三井化学株式会社
三井化学株式会社
村松昭宏
.
日本专利
:CN120858299A
,2025-10-28
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