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层叠体、光学构件、光学装置以及层叠体的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202480020405.3
申请日
:
2024-03-21
公开(公告)号
:
CN120858029A
公开(公告)日
:
2025-10-28
发明(设计)人
:
滨田千绘
杉野晶子
松野康司
申请人
:
日东电工株式会社
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
B32B27/30
IPC分类号
:
B32B3/26
C09J7/38
C09J11/06
C09J133/00
G02B5/30
H10K50/856
H10K59/95
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
王利波
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-28
公开
公开
共 50 条
[1]
层叠体、光学构件及光学装置
[P].
杉野晶子
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
杉野晶子
;
高桥智一
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
高桥智一
;
服部大辅
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
服部大辅
;
滨田千绘
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
滨田千绘
;
吉见俊哉
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0
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0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
吉见俊哉
.
日本专利
:CN118159615A
,2024-06-07
[2]
层叠体、光学构件及光学装置
[P].
滨田千绘
论文数:
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
滨田千绘
;
杉野晶子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
杉野晶子
;
吉见俊哉
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0
机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
吉见俊哉
.
日本专利
:CN118632910A
,2024-09-10
[3]
层叠体、层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法
[P].
杉野晶子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
杉野晶子
;
滨田千绘
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
滨田千绘
;
吉见俊哉
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0
机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
吉见俊哉
.
日本专利
:CN118043195A
,2024-05-14
[4]
光学层叠体、光学装置、光学层叠体的制造方法
[P].
铃木达也
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
铃木达也
;
沟端香
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
沟端香
;
新家香织
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
新家香织
;
本田哲士
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
本田哲士
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
石黑繁树
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0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
石黑繁树
.
日本专利
:CN118176454A
,2024-06-11
[5]
粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置
[P].
水野瑞穗
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水野瑞穗
;
田中亚树子
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田中亚树子
;
小坂尚史
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小坂尚史
;
中村恒三
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0
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中村恒三
.
中国专利
:CN115135738A
,2022-09-30
[6]
粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置
[P].
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
小坂尚史
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
小坂尚史
;
中村恒三
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN115135738B
,2025-02-18
[7]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
中村恒三
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN115151620B
,2024-04-09
[8]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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0
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水野瑞穗
;
田中亚树子
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田中亚树子
;
中村恒三
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0
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0
中村恒三
.
中国专利
:CN115151620A
,2022-10-04
[9]
粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法
[P].
水野瑞穗
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0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
水野瑞穗
;
田中亚树子
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
田中亚树子
;
中村恒三
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0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
中村恒三
.
日本专利
:CN118421225A
,2024-08-02
[10]
光学层叠体以及光学层叠体的制造方法
[P].
八木汐海
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0
引用数:
0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
八木汐海
;
山下智弘
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
山下智弘
;
西条幸雄
论文数:
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引用数:
0
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机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
西条幸雄
;
增田有花
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0
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0
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0
机构:
日东电工株式会社
日东电工株式会社
增田有花
.
日本专利
:CN120539862A
,2025-08-26
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