粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410387599.2

申请日：

2021-02-19

公开(公告)号：

CN118421225A

公开(公告)日：

2024-08-02

发明(设计)人：

水野瑞穗田中亚树子中村恒三

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C09J133/08

IPC分类号：

G02B5/02 F21V8/00 G02B5/04 G02B3/00 B32B7/12 B32B3/30 B32B27/30 B32B27/06 C09J175/14 C09J4/06 C09J4/02 C08F220/18 C08F220/58 C08F220/06 C08F220/20 C09J7/30

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王利波

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法 [P].

水野瑞穗 ;

田中亚树子 ;

中村恒三 .

中国专利 :CN115151620A ,2022-10-04

[2]

粘接剂组合物层、层叠体、光学层叠体及光学装置、以及光学层叠体的制造方法 [P].

水野瑞穗 ;

田中亚树子 ;

中村恒三 .

日本专利 :CN115151620B ,2024-04-09

[3]

粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置 [P].

水野瑞穗 ;

田中亚树子 ;

小坂尚史 ;

中村恒三 .

中国专利 :CN115135738A ,2022-09-30

[4]

粘接剂层、层叠体、光学层叠体及光学层叠体的制造方法、以及光学装置 [P].

水野瑞穗 ;

田中亚树子 ;

小坂尚史 ;

中村恒三 .

日本专利 :CN115135738B ,2025-02-18

[5]

层叠体、光学构件、光学装置以及层叠体的制造方法 [P].

滨田千绘 ;

杉野晶子 ;

松野康司 .

日本专利 :CN120858029A ,2025-10-28

[6]

光学层叠体、光学装置、光学层叠体的制造方法 [P].

铃木达也 ;

沟端香 ;

新家香织 ;

本田哲士 ;

田中亚树子 ;

水野瑞穗 ;

石黑繁树 .

日本专利 :CN118176454A ,2024-06-11

[7]

光学层叠体以及光学层叠体的制造方法 [P].

八木汐海 ;

山下智弘 ;

西条幸雄 ;

增田有花 .

日本专利 :CN120539862A ,2025-08-26

[8]

光学层叠体的制造方法、粘接剂涂敷装置及光学层叠体的制造装置 [P].

山崎达也 ;

小川敏弘 ;

植敷大地 .

中国专利 :CN114423598A ,2022-04-29

[9]

光学层叠体、及带有粘合层的光学层叠体的制造方法 [P].

名田敬之 .

中国专利 :CN110275234B ,2019-09-24

[10]

层叠体、层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法 [P].

杉野晶子 ;

滨田千绘 ;

吉见俊哉 .

日本专利 :CN118043195A ,2024-05-14

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-08-02	公开	公开
2024-08-20	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09J 133/08申请日:20210219