导电膜蚀刻剂及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00136167.8

申请日：

2000-12-27

公开(公告)号：

CN1311350A

公开(公告)日：

2001-09-05

发明(设计)人：

张青廖显伯

申请人：

申请人地址：

519070广东省珠海市前山金钟花园6栋

IPC主分类号：

C23F116

IPC分类号：

代理机构：

三高专利事务所

代理人：

吴凤英

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-09-05	公开	公开
2004-08-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2001-08-08	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

透明导电膜蚀刻剂 [P].

李锡重 ;

朴忠雨 ;

李泰亨 .

中国专利 :CN102177219A ,2011-09-07

[2]

蚀刻剂及蚀刻方法 [P].

齐藤范之 ;

吉田卓司 ;

井上和武 ;

石川诚 ;

上原口好夫 .

中国专利 :CN1453829A ,2003-11-05

[3]

蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂制备液 [P].

松田修 ;

菊池信之 ;

林田一良 ;

白旗里志 .

中国专利 :CN103258727A ,2013-08-21

[4]

蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂制备液 [P].

松田修 ;

菊池信之 ;

林田一良 ;

白旗里志 .

中国专利 :CN101903988A ,2010-12-01

[5]

用于蚀刻导电多层膜的蚀刻剂组合物和使用其的蚀刻方法 [P].

徐宗铉 .

中国专利 :CN102409342B ,2012-04-11

[6]

蚀刻剂、蚀刻方法和蚀刻剂制备液 [P].

横沟贵宏 ;

鹤本浩之 ;

柿泽政彦 .

中国专利 :CN105378901B ,2016-03-02

[7]

蚀刻剂和蚀刻方法 [P].

齐藤范之 ;

吉田卓司 ;

井上和式 ;

石川诚 ;

上原口好夫 .

中国专利 :CN1798874A ,2006-07-05

[8]

蚀刻剂及使用它的蚀刻方法 [P].

石田辉和 ;

出口友香里 ;

佐藤未菜 .

中国专利 :CN102560497A ,2012-07-11

[9]

使用蚀刻剂的蚀刻方法 [P].

石田辉和 ;

出口友香里 ;

佐藤未菜 .

中国专利 :CN103820783A ,2014-05-28

[10]

铝合金蚀刻剂及铝合金蚀刻方法 [P].

金汉卿 ;

唐从华 .

中国专利 :CN112553628A ,2021-03-26

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