浅沟槽隔离结构及其形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210134249.2

申请日：

2012-04-28

公开(公告)号：

CN103377981B

公开(公告)日：

2013-10-30

发明(设计)人：

宋化龙

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21762

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-02	授权	授权
2013-10-30	公开	公开
2013-11-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101545325997 IPC(主分类):H01L 21/762 专利申请号:2012101342492 申请日:20120428

共 50 条

[1]

浅沟槽隔离结构及其形成方法 [P].

蒲贤勇 ;

陈轶群 ;

陈宗高 .

中国专利 :CN104347473A ,2015-02-11

[2]

浅沟槽隔离结构及其形成方法 [P].

田俊 ;

黄永彬 ;

王永刚 .

中国专利 :CN109637973A ,2019-04-16

[3]

浅沟槽隔离结构及其形成方法 [P].

赵猛 .

中国专利 :CN104103516B ,2014-10-15

[4]

浅沟槽隔离结构的形成方法 [P].

张海洋 ;

张翼英 .

中国专利 :CN103811403B ,2014-05-21

[5]

形成浅沟槽隔离结构的方法和浅沟槽隔离结构 [P].

刘明源 ;

吴汉明 ;

郭佳衢 ;

郑春生 .

中国专利 :CN101123204A ,2008-02-13

[6]

浅沟槽隔离结构及其形成方法 [P].

林永璨 ;

黄晓橹 .

中国专利 :CN109637972A ,2019-04-16

[7]

浅沟槽隔离结构及其形成方法 [P].

禹国宾 .

中国专利 :CN106856189A ,2017-06-16

[8]

浅沟槽隔离结构的形成方法 [P].

王硕 ;

许忠义 .

中国专利 :CN103050431A ,2013-04-17

[9]

浅沟槽隔离结构的形成方法 [P].

李娜 ;

刘轩 ;

陈超 .

中国专利 :CN105097643B ,2015-11-25

[10]

浅沟槽隔离结构的形成方法 [P].

鲍宇 .

中国专利 :CN104103569A ,2014-10-15

← 1 2 3 4 5 →