膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610003698.8

申请日：

2003-09-28

公开(公告)号：

CN100397580C

公开(公告)日：

2006-08-23

发明(设计)人：

长谷井宏宣平井利充

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21288

IPC分类号：

H01L213205 H01L21768 H05K312 H05B3310 B41M300

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-10-18	实质审查的生效	实质审查的生效
2016-11-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101687380846 IPC(主分类):H01L 21/288 专利号:ZL2006100036988 申请日:20030928 授权公告日:20080625 终止日期:20150928
2006-08-23	公开	公开
2008-06-25	授权	授权

共 50 条

[1]

膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 [P].

长谷井宏宣 ;

平井利充 .

中国专利 :CN1501436A ,2004-06-02

[2]

膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 [P].

长谷井宏宣 ;

平井利充 .

中国专利 :CN1822324A ,2006-08-23

[3]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[4]

透明导电膜的图案形成方法 [P].

宫川拓也 .

中国专利 :CN1265398C ,2004-12-01

[5]

图案化导电膜的形成方法 [P].

下田达也 ;

松木安生 ;

申仲荣 .

中国专利 :CN102713002A ,2012-10-03

[6]

感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN102859612A ,2013-01-02

[7]

透明导电图案的形成方法、导电膜基板及制造方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN108008602A ,2018-05-08

[8]

图案的形成装置及方法、导电膜布线的制造方法及电子器件 [P].

长谷井宏宣 .

中国专利 :CN1459372A ,2003-12-03

[9]

导电膜的形成方法 [P].

赵胜衍 .

中国专利 :CN1073296A ,1993-06-16

[10]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102124529B ,2011-07-13

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