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涂胶显影机清洗系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922400051.4
申请日：
2019-12-27
公开(公告)号：
CN211488799U
公开(公告)日：
2020-09-15
发明(设计)人：
安礼余
申请人：
申请人地址：
215000 江苏省苏州市苏州工业园区加成花园中新大道西128号幢11D室
IPC主分类号：
B08B302
IPC分类号：
B08B314
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-15 | 授权 | 授权 |