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涂胶显影机上盖清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201320510137.2
申请日
:
2013-08-20
公开(公告)号
:
CN203437361U
公开(公告)日
:
2014-02-19
发明(设计)人
:
顾烨
木建秀
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
IPC主分类号
:
B08B302
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
屈蘅;李时云
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-08-07
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B08B 3/02 申请日:20130820 授权公告日:20140219 终止日期:20190820
2014-02-19
授权
授权
共 50 条
[1]
涂胶显影机上盖清洗装置
[P].
顾烨
论文数:
0
引用数:
0
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0
顾烨
.
中国专利
:CN205570884U
,2016-09-14
[2]
一种涂胶显影机上盖清洗装置
[P].
马亮
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0
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0
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0
马亮
.
中国专利
:CN215067725U
,2021-12-07
[3]
清洗装置及涂胶显影机
[P].
陈建宇
论文数:
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陈建宇
;
申文帅
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0
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0
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0
申文帅
;
程志
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0
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0
程志
.
中国专利
:CN216150523U
,2022-04-01
[4]
涂胶显影机上盖板加热装置
[P].
安礼余
论文数:
0
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0
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安礼余
.
中国专利
:CN211123618U
,2020-07-28
[5]
涂胶显影机的涂胶胶体清洗装置
[P].
张明
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机构:
无锡易晟半导体有限公司
无锡易晟半导体有限公司
张明
;
马杰
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0
机构:
无锡易晟半导体有限公司
无锡易晟半导体有限公司
马杰
.
中国专利
:CN220559605U
,2024-03-08
[6]
一种涂胶显影机台的清洗装置及涂胶显影机台
[P].
李方金
论文数:
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李方金
;
陆舒楠
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陆舒楠
;
石磊
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
石磊
.
中国专利
:CN222753875U
,2025-04-15
[7]
涂胶显影机清洗系统
[P].
安礼余
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安礼余
.
中国专利
:CN211488799U
,2020-09-15
[8]
一种显影机上盖清洗装置
[P].
曹明
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0
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0
曹明
.
中国专利
:CN206824261U
,2018-01-02
[9]
涂胶显影机台
[P].
张党柱
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张党柱
;
赖政聪
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赖政聪
;
古哲安
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古哲安
;
黄志凯
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黄志凯
;
叶日铨
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叶日铨
.
中国专利
:CN208903073U
,2019-05-24
[10]
涂胶显影机清洁装置
[P].
张建峰
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张建峰
;
蔡奇澄
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蔡奇澄
;
张书庆
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张书庆
;
张健
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张健
;
卢健
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卢健
;
王军
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王军
.
中国专利
:CN201392817Y
,2010-01-27
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