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一种涂胶显影机台的清洗装置及涂胶显影机台
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420988309.5
申请日
:
2024-05-08
公开(公告)号
:
CN222753875U
公开(公告)日
:
2025-04-15
发明(设计)人
:
李方金
陆舒楠
石磊
申请人
:
合肥晶合集成电路股份有限公司
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
IPC主分类号
:
B08B3/02
IPC分类号
:
B08B13/00
代理机构
:
上海汉之律师事务所 31378
代理人
:
胡雨
法律状态
:
授权
国省代码
:
天津市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-15
授权
授权
共 50 条
[1]
涂胶显影机台
[P].
张党柱
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张党柱
;
赖政聪
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赖政聪
;
古哲安
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古哲安
;
黄志凯
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黄志凯
;
叶日铨
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叶日铨
.
中国专利
:CN208903073U
,2019-05-24
[2]
一种涂胶显影机台
[P].
鲁旭光
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鲁旭光
;
陈晓琪
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陈晓琪
;
胡清强
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胡清强
;
王波
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王波
.
中国专利
:CN201765433U
,2011-03-16
[3]
异味去除装置和涂胶显影机台
[P].
李华
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李华
;
闻旭
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闻旭
;
王琦
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王琦
;
赵春雨
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赵春雨
;
张浩
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张浩
;
葛斌
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葛斌
;
吴长明
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吴长明
.
中国专利
:CN112198766A
,2021-01-08
[4]
清洗装置及涂胶显影机
[P].
陈建宇
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陈建宇
;
申文帅
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申文帅
;
程志
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程志
.
中国专利
:CN216150523U
,2022-04-01
[5]
涂胶显影机的涂胶胶体清洗装置
[P].
张明
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机构:
无锡易晟半导体有限公司
无锡易晟半导体有限公司
张明
;
马杰
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机构:
无锡易晟半导体有限公司
无锡易晟半导体有限公司
马杰
.
中国专利
:CN220559605U
,2024-03-08
[6]
涂胶显影机上盖清洗装置
[P].
顾烨
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顾烨
;
木建秀
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木建秀
.
中国专利
:CN203437361U
,2014-02-19
[7]
涂胶显影机上盖清洗装置
[P].
顾烨
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顾烨
.
中国专利
:CN205570884U
,2016-09-14
[8]
涂胶显影机清洗系统
[P].
安礼余
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安礼余
.
中国专利
:CN211488799U
,2020-09-15
[9]
涂胶显影机
[P].
金浩天
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金浩天
.
中国专利
:CN306079389S
,2020-09-29
[10]
涂胶显影机
[P].
张琪
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
张琪
;
符友银
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
符友银
;
杨涛
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
杨涛
.
中国专利
:CN309071624S
,2025-01-14
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