处理装置及处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610136643.4

申请日：

2006-10-27

公开(公告)号：

CN1959572A

公开(公告)日：

2007-05-09

发明(设计)人：

伊藤猛齐藤智一

申请人：

申请人地址：

日本静冈县

IPC主分类号：

G05B1918

IPC分类号：

G05B19402 B23Q1522

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

陶凤波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-17	授权	授权
2007-07-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-05-09	公开	公开

共 50 条

[1]

处理装置及处理方法 [P].

佐佐木真一 ;

添田胜之 ;

西部幸伸 .

中国专利 :CN104037108A ,2014-09-10

[2]

流体处理装置及处理方法 [P].

榎村真一 .

中国专利 :CN102574095B ,2012-07-11

[3]

流体处理装置及处理方法 [P].

榎村真一 .

中国专利 :CN102781569B ,2012-11-14

[4]

流体处理装置及处理方法 [P].

榎村真一 .

中国专利 :CN103331112A ,2013-10-02

[5]

流体处理装置及处理方法 [P].

榎村真一 .

中国专利 :CN101784346A ,2010-07-21

[6]

光处理装置及光处理方法 [P].

中岛明信 ;

杉冈晋次 ;

山口真典 ;

藤次英树 .

中国专利 :CN102218414A ,2011-10-19

[7]

湿处理装置及湿处理方法 [P].

松井淳 .

中国专利 :CN119657520A ,2025-03-21

[8]

表面处理装置及表面处理方法 [P].

奥田朋士 ;

松山大辅 ;

立花真司 ;

内海雅之 .

中国专利 :CN111094635A ,2020-05-01

[9]

等离子处理装置及处理方法 [P].

杜珊珊 ;

黄怡 ;

韩秋华 .

中国专利 :CN101740329A ,2010-06-16

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

根本脩平 .

日本专利 :CN119790491A ,2025-04-08

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