等离子处理装置及处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810202828.X

申请日：

2008-11-17

公开(公告)号：

CN101740329A

公开(公告)日：

2010-06-16

发明(设计)人：

杜珊珊黄怡韩秋华

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005267843 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:200810202828X 申请日:20081117
2020-10-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20081117 授权公告日:20121205 终止日期:20191117
2012-12-05	授权	授权
2012-12-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101487568234 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL200810202828X 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20121116
2010-06-16	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理方法及等离子处理装置 [P].

大见忠弘 ;

寺本章伸 .

中国专利 :CN101273671A ,2008-09-24

[2]

等离子处理装置及等离子处理方法 [P].

岩井哲博 .

中国专利 :CN103140922A ,2013-06-05

[3]

等离子处理装置及等离子处理方法 [P].

黄太亨 ;

张鸿永 .

中国专利 :CN101267708A ,2008-09-17

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

徐浩 ;

内田丈滋 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

井上智己 .

中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04

[6]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[8]

等离子处理装置及方法 [P].

浅野敬祐 ;

山田贤一 ;

川崎智弘 ;

沼川信孝 .

中国专利 :CN108885983B ,2018-11-23

[9]

等离子处理装置及方法 [P].

松原功幸 ;

针贝笃史 ;

广岛满 .

中国专利 :CN105140094A ,2015-12-09

[10]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

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