时分复用处理中的包络跟随器终点检测

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480012570.7

申请日：

2004-05-06

公开(公告)号：

CN100401491C

公开(公告)日：

2006-06-07

发明(设计)人：

鲁塞尔·韦斯特曼大卫·约翰逊

申请人：

申请人地址：

美国佛罗里达州

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

H01L213065 H01J3732

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

黄启行;谢丽娜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-06-07	公开	公开
2006-08-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-07-09	授权	授权

共 50 条

[1]

有时分多重蚀刻工艺中的终点检测 [P].

罗素·韦斯特曼 ;

大卫·J·约翰逊 .

中国专利 :CN1739185A ,2006-02-22

[2]

时分多工工艺中的用于终点的波长选择 [P].

大卫·约翰逊 ;

鲁塞尔·韦斯特曼 .

中国专利 :CN101248507B ,2008-08-20

[3]

终点检测方法和基板处理装置 [P].

神户乔史 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN103545228B ,2014-01-29

[4]

用于原子层蚀刻(ALE)的终点检测算法 [P].

陈艳 ;

田新康 ;

贾森·弗恩斯 .

日本专利 :CN109643673B ,2024-01-30

[5]

用于原子层蚀刻(ALE)的终点检测算法 [P].

陈艳 ;

田新康 ;

贾森·弗恩斯 .

中国专利 :CN109643673A ,2019-04-16

[6]

具有反射终点检测的蚀刻处理系统 [P].

M·N·格芮姆比戈安 ;

K·K·恩古耶 .

中国专利 :CN110383449A ,2019-10-25

[7]

用于光掩模刻蚀的终点检测 [P].

迈克尔·格里伯根 .

中国专利 :CN104614932A ,2015-05-13

[8]

用于光掩模刻蚀的终点检测 [P].

迈克尔·格里伯根 .

中国专利 :CN101174082A ,2008-05-07

[9]

使用多变量分析的等离子体蚀刻终点检测 [P].

陈艳 ;

谢尔盖·科马罗夫 ;

维·翁 .

中国专利 :CN104736744A ,2015-06-24

[10]

用于蚀刻终点检测的方法和设备 [P].

B·K·麦米林 ;

F·C·达萨帕 .

中国专利 :CN1898547A ,2007-01-17

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