基于栅极场板和源极场板的双异质结HEMT器件及其制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN202111007267.X
申请日
2021-08-30
公开(公告)号
CN113871477A
公开(公告)日
2021-12-31
发明(设计)人
李鑫
申请人
申请人地址
200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号3幢405、416室
IPC主分类号
H01L29778
IPC分类号
H01L2940 H01L2134
代理机构
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230
代理人
刘长春
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
基于栅极场板和源极场板的双异质结HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113871477B ,2024-08-16
[2]
基于栅极场板和漏极场板的双异质结HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823687A ,2021-12-21
[3]
基于栅极场板和漏极场板的双异质结HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823687B ,2024-07-26
[4]
基于栅极场板和双源极场板的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823681A ,2021-12-21
[5]
基于栅极场板和双源极场板的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823681B ,2024-08-27
[6]
GaN基HEMT器件源场板的制备方法及HEMT器件 [P]. 
默江辉 ;
王川宝 ;
苏延芬 ;
崔雍 ;
宋洁晶 ;
崔玉兴 .
中国专利 :CN108389791B ,2018-08-10
[7]
基于双异质结和异质集成衬底的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823686A ,2021-12-21
[8]
基于双异质结和异质集成衬底的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823686B ,2024-07-30
[9]
基于双异质结和复合钝化层的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823683B ,2024-07-30
[10]
基于双异质结和复合钝化层的HEMT器件及其制备方法 [P]. 
李鑫 .
中国专利 :CN113823683A ,2021-12-21