LDMOS器件的源端工艺方法

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专利类型
发明
申请号
CN202111440107.4
申请日
2021-11-30
公开(公告)号
CN114188404A
公开(公告)日
2022-03-15
发明(设计)人
王星杰 杨新杰
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
H01L2908
IPC分类号
H01L2910 H01L21336 H01L21265 H01L2978
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
焦健
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
LDMOS器件的源端工艺方法 [P]. 
王星杰 ;
杨新杰 .
中国专利 :CN114188404B ,2025-05-02
[2]
LDMOS器件及工艺方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN111063737A ,2020-04-24
[3]
LDMOS器件的工艺方法 [P]. 
张晗 ;
杨新杰 ;
金锋 .
中国专利 :CN115424931B ,2025-12-16
[4]
LDMOS器件的工艺方法 [P]. 
张晗 ;
杨新杰 ;
金锋 .
中国专利 :CN115424931A ,2022-12-02
[5]
LDMOS器件及工艺方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN112117332A ,2020-12-22
[6]
射频LDMOS器件及工艺方法 [P]. 
慈朋亮 ;
石晶 ;
胡君 ;
李娟娟 ;
钱文生 ;
刘冬华 .
中国专利 :CN104638003B ,2015-05-20
[7]
LDMOS器件埋层的工艺方法 [P]. 
杨文清 ;
乐薇 .
中国专利 :CN105140129A ,2015-12-09
[8]
LDMOS器件及工艺方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN112909095A ,2021-06-04
[9]
LDMOS器件及工艺方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN112909095B ,2024-03-19
[10]
LDMOS器件的制备方法和LDMOS器件 [P]. 
钱文生 .
中国专利 :CN111785633A ,2020-10-16