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一种反应腔中反应气体输送控制装置
被引:0
申请号
:
CN202122260828.9
申请日
:
2021-09-17
公开(公告)号
:
CN216585201U
公开(公告)日
:
2022-05-24
发明(设计)人
:
李冰妍
申请人
:
申请人地址
:
210000 江苏省南京市江宁区苏源大道19号九龙湖国际企业总部园B5座二层(江宁开发区)
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
C23C1652
代理机构
:
滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙) 34167
代理人
:
史芳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-24
授权
授权
共 50 条
[1]
一种控制反应气体进入真空反应腔的方法
[P].
周旭升
论文数:
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0
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周旭升
.
中国专利
:CN110137069B
,2019-08-16
[2]
反应器气体输送装置
[P].
张雷
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张雷
;
李方臣
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李方臣
;
陈鹏
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陈鹏
;
张文杰
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张文杰
;
张长静
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张长静
;
王延鹏
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王延鹏
;
王延峰
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王延峰
;
魏传国
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魏传国
;
刘立彬
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刘立彬
;
隋文超
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隋文超
.
中国专利
:CN201510867U
,2010-06-23
[3]
一种反应气体流量的稳定控制装置
[P].
陈淑俊
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陈淑俊
;
赵铁英
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赵铁英
;
杨光
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杨光
.
中国专利
:CN203720665U
,2014-07-16
[4]
用于MOCVD反应腔中反应气体输送与均匀分布控制的装置
[P].
金小亮
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金小亮
;
孙仁君
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孙仁君
;
陈爱华
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陈爱华
.
中国专利
:CN101914761A
,2010-12-15
[5]
气体反应连续腔
[P].
曾昭隆
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曾昭隆
;
廖科峰
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廖科峰
;
邱文鼎
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邱文鼎
;
赵子铭
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赵子铭
;
黄世壬
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黄世壬
;
汪宇炎
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汪宇炎
;
黎胜
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黎胜
;
何文福
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何文福
.
中国专利
:CN203333756U
,2013-12-11
[6]
一种反应腔气体喷头
[P].
请求不公布姓名
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机构:
无锡金源半导体科技有限公司
无锡金源半导体科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN221566314U
,2024-08-20
[7]
一种气体反应器内压强控制装置
[P].
袁方园
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袁方园
.
中国专利
:CN203238325U
,2013-10-16
[8]
气体反应连续腔及气体反应方法
[P].
曾昭隆
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曾昭隆
;
廖科峰
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廖科峰
;
邱文鼎
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邱文鼎
;
赵子铭
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赵子铭
;
黄世壬
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黄世壬
;
汪宇炎
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汪宇炎
;
黎胜
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黎胜
;
何文福
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何文福
.
中国专利
:CN104233213A
,2014-12-24
[9]
气体输送装置及使用该气体输送装置的反应器
[P].
雷本亮
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雷本亮
.
中国专利
:CN202090055U
,2011-12-28
[10]
一种用于MOCVD反应腔的气体流量控制装置
[P].
魏强
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魏强
.
中国专利
:CN202359196U
,2012-08-01
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