一种中性水基清洗剂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110405758.3

申请日：

2021-04-15

公开(公告)号：

CN113373005A

公开(公告)日：

2021-09-10

发明(设计)人：

胡杰

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区金园四路108号2幢A区101室

IPC主分类号：

C11D183

IPC分类号：

C11D320 C11D336 C11D337 C11D348 C11D360

代理机构：

北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947

代理人：

孙瑞峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-10	公开	公开
2021-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/83 申请日:20210415

共 50 条

[1]

中性清洗剂及其制备方法 [P].

熊勇 ;

张小蓉 ;

韩世忠 .

中国专利 :CN102399642A ,2012-04-04

[2]

一种水基清洗剂及其制备方法 [P].

轩飞 .

中国专利 :CN106833993A ,2017-06-13

[3]

一种中性水基清洗剂制备方法 [P].

胡杰 ;

冯春光 ;

李伟烨 .

中国专利 :CN117402682A ,2024-01-16

[4]

一种用于清洗PCB板的中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

李春方 ;

宋波 ;

程龙 ;

刘晓燕 .

中国专利 :CN112522037A ,2021-03-19

[5]

一种水基清洗剂及其用途 [P].

杨文静 ;

楼倩 ;

杨永兴 ;

汪洋 .

中国专利 :CN106893642B ,2017-06-27

[6]

一种纳米水基清洗剂及其制备方法 [P].

徐安莲 ;

周新华 ;

邓小安 ;

黄云波 .

中国专利 :CN102816660A ,2012-12-12

[7]

一种水基硅片清洗剂及其制备方法 [P].

郭万东 ;

孟祥法 ;

董培才 .

中国专利 :CN103571644A ,2014-02-12

[8]

半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20

[9]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[10]

一种水基清洗剂 [P].

唐远金 ;

徐安莲 .

中国专利 :CN106753928A ,2017-05-31

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