用于产生均匀可调的微波等离子体的等离子体喷嘴阵列

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580025065.0

申请日：

2005-07-21

公开(公告)号：

CN101066000B

公开(公告)日：

2007-10-31

发明(设计)人：

李相勋金重秀

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290

代理人：

武玉琴;张友文

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-09-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101517322261 IPC(主分类):H05H 1/46 专利号:ZL2005800250650 申请日:20050721 授权公告日:20101208 终止日期:20120721
2007-10-31	公开	公开
2007-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-12-08	授权	授权

共 50 条

[1]

微波等离子体产生室 [P].

M·哈默尔 .

中国专利 :CN107926107B ,2018-04-17

[2]

用于产生均匀等离子体的自适应等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN100438718C ,2006-11-15

[3]

用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN101040366A ,2007-09-19

[4]

用于均匀等离子体处理的喷嘴 [P].

R·米什拉 ;

S·S·C·R·巴海瑟帝 ;

E·S·白 ;

S·斯如纳乌卡拉苏 ;

S·瓦亚布朗 ;

C·孙 .

中国专利 :CN109637922A ,2019-04-16

[5]

用于均匀等离子体处理的喷嘴 [P].

R·米什拉 ;

S·S·C·R·巴海瑟帝 ;

E·S·白 ;

S·斯如纳乌卡拉苏 ;

S·瓦亚布朗 ;

C·孙 .

中国专利 :CN106575597B ,2017-04-19

[6]

产生等离子体的微波天线 [P].

刘铉锺 ;

章守旭 ;

郑熔镐 ;

李奉柱 .

中国专利 :CN102612863B ,2012-07-25

[7]

等离子体喷嘴 [P].

李钢 ;

朱俊强 ;

杜薇 ;

徐纲 ;

卢新根 ;

尹娟 ;

穆勇 ;

刘存喜 ;

刘富强 ;

杨金虎 .

中国专利 :CN107249246A ,2017-10-13

[8]

等离子体喷嘴 [P].

沃尔夫冈·维奥尔 ;

马丁·贝尔曼 ;

克里斯汀·奥克斯 ;

马库斯·哈姆斯 .

中国专利 :CN108781498A ,2018-11-09

[9]

等离子体喷嘴 [P].

李钢 ;

朱俊强 ;

杜薇 ;

徐纲 ;

卢新根 ;

张燕峰 ;

尹娟 ;

穆勇 ;

刘存喜 .

中国专利 :CN107484321B ,2017-12-15

[10]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

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