微波等离子体产生室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680044385.9

申请日：

2016-07-20

公开(公告)号：

CN107926107B

公开(公告)日：

2018-04-17

发明(设计)人：

M·哈默尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H05H130

IPC分类号：

H05H146 H05H126

代理机构：

北京坤瑞律师事务所 11494

代理人：

史悦

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-03	授权	授权
2018-04-17	公开	公开
2018-08-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/30 申请日:20160720

共 50 条

[1]

一种微波等离子体产生装置 [P].

王邱林 ;

吉皓 .

中国专利 :CN112888134B ,2024-03-08

[2]

一种微波等离子体产生装置 [P].

王邱林 ;

吉皓 .

中国专利 :CN112888134A ,2021-06-01

[3]

微波等离子体源及其产生方法 [P].

M·R·哈米尔 .

中国专利 :CN1286350C ,2005-05-18

[4]

微波等离子体火炬产生装置 [P].

丁海兵 ;

王彬彬 ;

吉忠浩 ;

陆登峰 ;

肖韧 ;

唐科 .

中国专利 :CN114760747B ,2025-02-28

[5]

微波等离子体火炬产生装置 [P].

丁海兵 ;

王彬彬 ;

吉忠浩 ;

陆登峰 ;

肖韧 ;

唐科 .

中国专利 :CN114760747A ,2022-07-15

[6]

用于产生均匀可调的微波等离子体的等离子体喷嘴阵列 [P].

李相勋 ;

金重秀 .

中国专利 :CN101066000B ,2007-10-31

[7]

一种微波等离子体产生装置 [P].

王邱林 ;

吉皓 .

中国专利 :CN214101881U ,2021-08-31

[8]

等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P].

熊谷裕典 ;

今井伸一 .

中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04

[9]

等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P].

尤里·N·托尔马切夫 ;

马东俊 ;

金大一 ;

瑟吉·Y·纳瓦拉 .

中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10

[10]

等离子体产生装置以及等离子体产生方法 [P].

岩田卓也 ;

池户俊之 .

日本专利 :CN117596763A ,2024-02-23

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