等离子体产生装置及等离子体产生方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280014102.8
申请日
2012-05-14
公开(公告)号
CN103429539A
公开(公告)日
2013-12-04
发明(设计)人
熊谷裕典 今井伸一
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
C02F148
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
韩聪
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体产生装置 [P]. 
池户俊之 .
日本专利 :CN119054417A ,2024-11-29
[2]
等离子体产生装置 [P]. 
日下航 .
中国专利 :CN110419268A ,2019-11-05
[3]
等离子体产生装置以及等离子体产生方法 [P]. 
岩田卓也 ;
池户俊之 .
日本专利 :CN117596763A ,2024-02-23
[4]
等离子体产生装置及等离子体照射方法 [P]. 
神藤高广 ;
池户俊之 .
中国专利 :CN109565921A ,2019-04-02
[5]
等离子体发生装置及等离子体产生方法 [P]. 
岩田卓也 ;
土田纮佑 .
日本专利 :CN117677019A ,2024-03-08
[6]
等离子体头及等离子体产生装置 [P]. 
佐野裕贵 ;
池户俊之 ;
岩田卓也 .
日本专利 :CN119054416A ,2024-11-29
[7]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03
[8]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
日本专利 :CN114586473B ,2025-02-18
[9]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
南光正平 .
日本专利 :CN119817178A ,2025-04-11
[10]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
江部明宪 ;
安东靖典 ;
渡边正则 .
中国专利 :CN102027811A ,2011-04-20