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等离子体产生装置及等离子体照射方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201680088186.8
申请日：
2016-08-11
公开(公告)号：
CN109565921A
公开(公告)日：
2019-04-02
发明(设计)人：
神藤高广
池户俊之
申请人：
申请人地址：
日本爱知县知立市
IPC主分类号：
H05H124
IPC分类号：
H05H126
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
穆德骏;安翔
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-05-18 | 授权 | 授权 |
| 2019-04-02 | 公开 | 公开 |
| 2019-07-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20160811 |