等离子体产生装置及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980101498.1

申请日：

2019-10-22

公开(公告)号：

CN114586473B

公开(公告)日：

2025-02-18

发明(设计)人：

岩田卓也

申请人：

株式会社富士

申请人地址：

日本爱知县知立市

IPC主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

杨青;安翔

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-18	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P].

岩田卓也 .

中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03

[2]

等离子体处理装置和等离子体产生装置 [P].

加藤寿 ;

三浦繁博 .

中国专利 :CN103805968A ,2014-05-21

[3]

等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P].

南光正平 .

日本专利 :CN119817178A ,2025-04-11

[4]

等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P].

江部明宪 ;

安东靖典 ;

渡边正则 .

中国专利 :CN102027811A ,2011-04-20

[5]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

三浦繁博 ;

加藤寿 ;

佐藤润 ;

中坪敏行 ;

菊地宏之 .

中国专利 :CN105097459A ,2015-11-25

[6]

等离子体产生组件及等离子体处理装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN210984687U ,2020-07-10

[7]

等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P].

熊谷裕典 ;

今井伸一 .

中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04

[8]

等离子体发生装置及等离子体产生方法 [P].

岩田卓也 ;

土田纮佑 .

日本专利 :CN117677019A ,2024-03-08

[9]

等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P].

尤里·N·托尔马切夫 ;

马东俊 ;

金大一 ;

瑟吉·Y·纳瓦拉 .

中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10

[10]

等离子体处理设备和等离子体产生方法 [P].

石井信雄 ;

八坂保能 ;

高桥应明 ;

安藤真 .

中国专利 :CN100440448C ,2005-08-10

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