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等离子体头及等离子体产生装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202280095114.1
申请日：
2022-07-06
公开(公告)号：
CN119054416A
公开(公告)日：
2024-11-29
发明(设计)人：
佐野裕贵 池户俊之 岩田卓也
申请人：
株式会社富士
申请人地址：
日本国爱知县
IPC主分类号：
H05H1/26
IPC分类号：
代理机构：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444
代理人：
权圣;龚敏
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-29 公开 公开
2024-12-17 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/26申请日:20220706
共 50 条
[1]
等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P]. 
熊谷裕典 ;
今井伸一 .
中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04
[2]
等离子体产生装置及等离子体加工设备 [P]. 
杨靖 ;
刘涛 ;
乐卫平 ;
宋成 ;
张文杰 ;
谢幸光 .
中国专利 :CN222776358U ,2025-04-18
[3]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
南光正平 .
日本专利 :CN119817178A ,2025-04-11
[4]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
江部明宪 ;
安东靖典 ;
渡边正则 .
中国专利 :CN102027811A ,2011-04-20
[5]
等离子体产生装置以及等离子体产生方法 [P]. 
岩田卓也 ;
池户俊之 .
日本专利 :CN117596763A ,2024-02-23
[6]
等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P]. 
杨靖 ;
刘涛 ;
乐卫平 ;
宋成 ;
张文杰 ;
谢幸光 .
中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26
[7]
等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P]. 
杨靖 ;
刘涛 ;
乐卫平 ;
宋成 ;
张文杰 ;
谢幸光 .
中国专利 :CN118400856A ,2024-07-26
[8]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03
[9]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
日本专利 :CN114586473B ,2025-02-18
[10]
等离子体产生装置及等离子体照射方法 [P]. 
神藤高广 ;
池户俊之 .
中国专利 :CN109565921A ,2019-04-02
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