用于均匀等离子体处理的喷嘴

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910020043.9

申请日：

2015-07-30

公开(公告)号：

CN109637922A

公开(公告)日：

2019-04-16

发明(设计)人：

R·米什拉 S·S·C·R·巴海瑟帝 E·S·白 S·斯如纳乌卡拉苏 S·瓦亚布朗 C·孙

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

C23C16455 C23C1650

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

汪骏飞;侯颖媖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-16	公开	公开
2019-05-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20150730
2021-07-02	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J 37/32 申请公布日:20190416

共 50 条

[1]

用于均匀等离子体处理的喷嘴 [P].

R·米什拉 ;

S·S·C·R·巴海瑟帝 ;

E·S·白 ;

S·斯如纳乌卡拉苏 ;

S·瓦亚布朗 ;

C·孙 .

中国专利 :CN106575597B ,2017-04-19

[2]

用于产生均匀可调的微波等离子体的等离子体喷嘴阵列 [P].

李相勋 ;

金重秀 .

中国专利 :CN101066000B ,2007-10-31

[3]

用于等离子体处理的均匀性控制 [P].

弗拉基米尔·纳戈尔尼 ;

雷内·乔治 .

美国专利 :CN117678049A ,2024-03-08

[4]

等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统 [P].

范德宏 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112117176A ,2020-12-22

[5]

用于等离子体处理的电极-介电喷嘴 [P].

保罗·康科拉 ;

肖恩·泰勒·史密斯 ;

崎山行则 ;

卡尔·弗雷德里克·利瑟 ;

拉姆吉斯汗·拉奥·林加帕里 .

美国专利 :CN117941026A ,2024-04-26

[6]

等离子体生成喷嘴和包括该喷嘴的等离子体装置 [P].

L·张 ;

H·李 .

美国专利 :CN118077315A ,2024-05-24

[7]

用于等离子体处理腔室的等离子体屏 [P].

M·T·尼科尔斯 ;

I·尤瑟夫 ;

J·A·奥马利三世 ;

R·丁德萨 ;

S·E·巴巴扬 .

中国专利 :CN109643630A ,2019-04-16

[8]

用于等离子体处理设备的等离子体增强器 [P].

O·马斯勒 ;

H·埃伯勒 ;

P·格施文德 .

中国专利 :CN101233598B ,2008-07-30

[9]

等离子体喷嘴 [P].

李钢 ;

朱俊强 ;

杜薇 ;

徐纲 ;

卢新根 ;

尹娟 ;

穆勇 ;

刘存喜 ;

刘富强 ;

杨金虎 .

中国专利 :CN107249246A ,2017-10-13

[10]

等离子体喷嘴 [P].

沃尔夫冈·维奥尔 ;

马丁·贝尔曼 ;

克里斯汀·奥克斯 ;

马库斯·哈姆斯 .

中国专利 :CN108781498A ,2018-11-09

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