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一种半色调掩模板
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201120113864.6
申请日
:
2011-04-18
公开(公告)号
:
CN202003137U
公开(公告)日
:
2011-10-05
发明(设计)人
:
崔承镇
刘圣烈
宋泳锡
申请人
:
申请人地址
:
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
IPC主分类号
:
G03F100
IPC分类号
:
G03F108
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
罗建民;邓伯英
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-05-04
专利权的终止
专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 1/00 申请日:20110418 授权公告日:20111005
2011-10-05
授权
授权
共 50 条
[1]
半色调掩模板及其制造方法
[P].
刘圣烈
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘圣烈
;
崔莹石
论文数:
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崔莹石
.
中国专利
:CN101408724A
,2009-04-15
[2]
一种半色调掩模板及其制造方法
[P].
罗丽平
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0
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0
罗丽平
;
贠向南
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贠向南
;
许朝钦
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许朝钦
;
金基用
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0
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金基用
;
周子卿
论文数:
0
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0
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周子卿
.
中国专利
:CN103034045A
,2013-04-10
[3]
半色调掩模板及其制作方法
[P].
崔承镇
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崔承镇
;
金基用
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金基用
.
中国专利
:CN102103323A
,2011-06-22
[4]
显示面板的制备方法及半色调掩模板
[P].
孙福坤
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
孙福坤
;
徐剑云
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
徐剑云
;
俞瑀
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
俞瑀
;
谈耀宏
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
谈耀宏
;
蒋龙琼
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
蒋龙琼
;
蒋冬梅
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
蒋冬梅
;
李顺星
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李顺星
;
杨森
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
杨森
;
李旭伟
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李旭伟
;
孙文
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
孙文
.
中国专利
:CN120276205A
,2025-07-08
[5]
半色调掩模版及其制造方法
[P].
刘圣烈
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0
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刘圣烈
.
中国专利
:CN101387827B
,2009-03-18
[6]
一种掩模板
[P].
史大为
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0
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史大为
;
郭建
论文数:
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郭建
.
中国专利
:CN202421717U
,2012-09-05
[7]
一种蒸镀半刻蚀掩模板
[P].
张义波
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张义波
;
魏晓婷
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魏晓婷
;
李光
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李光
.
中国专利
:CN216786244U
,2022-06-21
[8]
半色调式相移掩模及其制备方法
[P].
咸泳穆
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咸泳穆
.
中国专利
:CN1115408A
,1996-01-24
[9]
掩模板
[P].
请求不公布姓名
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
请求不公布姓名
;
贾志龙
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
贾志龙
.
中国专利
:CN222636484U
,2025-03-18
[10]
半色调式相移掩模及其制造方法
[P].
咸泳穆
论文数:
0
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0
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0
咸泳穆
.
中国专利
:CN1115411A
,1996-01-24
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