研磨剂供给装置、研磨装置以及研磨剂供给方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080005905.1

申请日：

2020-03-12

公开(公告)号：

CN112930248A

公开(公告)日：

2021-06-08

发明(设计)人：

福山翔樱井佑辅

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

B24B5702

IPC分类号：

B24B3700 B24B3708 H01L21304

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王玮;张丰桥

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-08	公开	公开
2021-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 57/02 申请日:20200312

共 50 条

[1]

研磨剂、研磨剂的制造方法以及研磨方法 [P].

竹宫聪 ;

中泽伯人 ;

金喜则 .

中国专利 :CN1306562C ,2005-01-26

[2]

研磨剂以及研磨方法 [P].

竹宫聪 ;

真丸幸惠 .

中国专利 :CN100468647C ,2007-03-14

[3]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN107199502A ,2017-09-26

[4]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN105368397A ,2016-03-02

[5]

CMP研磨剂以及研磨方法 [P].

深泽正人 ;

吉田诚人 ;

小山直之 ;

大槻裕人 ;

山岸智明 ;

榎本和宏 ;

芳贺浩二 ;

仓田靖 .

中国专利 :CN100377310C ,2006-03-08

[6]

研磨剂、研磨剂套剂及基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104582899A ,2015-04-29

[7]

研磨剂、研磨剂用储存液和研磨方法 [P].

花野真之 ;

西山雅也 ;

乡丰 ;

樱井治彰 ;

岩野友洋 .

中国专利 :CN107406752A ,2017-11-28

[8]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

中岛秀喜 ;

加藤知夫 ;

赤时正敏 ;

冈村有造 ;

岩本纮明 .

日本专利 :CN119768483A ,2025-04-04

[9]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

福井宏佳 .

日本专利 :CN118435326A ,2024-08-02

[10]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

日本专利 :CN108831830B ,2024-05-17

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