研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380060788.2

申请日：

2023-08-22

公开(公告)号：

CN119768483A

公开(公告)日：

2025-04-04

发明(设计)人：

中岛秀喜加藤知夫赤时正敏冈村有造岩本纮明

申请人：

AGC株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C09K3/14

IPC分类号：

B24B1/00 B24B37/015 B24B53/017 C09G1/02 H01L21/304

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王洋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09K 3/14申请日:20230822
2025-04-04	公开	公开

共 50 条

[1]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

福井宏佳 .

日本专利 :CN118435326A ,2024-08-02

[2]

研磨剂、研磨剂用储存液和研磨方法 [P].

花野真之 ;

西山雅也 ;

乡丰 ;

樱井治彰 ;

岩野友洋 .

中国专利 :CN107406752A ,2017-11-28

[3]

研磨剂、研磨方法、半导体部件的制造方法和研磨剂用添加液 [P].

野泽靖久 .

日本专利 :CN120937116A ,2025-11-11

[4]

研磨剂和研磨方法 [P].

冈村有造 .

中国专利 :CN113930163A ,2022-01-14

[5]

研磨剂和研磨方法 [P].

吉田有衣子 .

中国专利 :CN102985508A ,2013-03-20

[6]

研磨剂以及研磨方法 [P].

竹宫聪 ;

真丸幸惠 .

中国专利 :CN100468647C ,2007-03-14

[7]

研磨剂、研磨剂的制造方法以及研磨方法 [P].

竹宫聪 ;

中泽伯人 ;

金喜则 .

中国专利 :CN1306562C ,2005-01-26

[8]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

日本专利 :CN108831830B ,2024-05-17

[9]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN107617968A ,2018-01-23

[10]

研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法 [P].

龙崎大介 ;

成田武宪 ;

星阳介 ;

岩野友洋 .

中国专利 :CN102627914B ,2012-08-08

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