研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210074729.4

申请日：

2010-09-14

公开(公告)号：

CN102627914B

公开(公告)日：

2012-08-08

发明(设计)人：

龙崎大介成田武宪星阳介岩野友洋

申请人：

申请人地址：

日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

C09G102 H01L213105

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

金鲜英;刘强

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-10-15	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101706087809 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:2012100747294 变更事项:申请人变更前:日立化成工业株式会社变更后:日立化成株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
2012-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101331110268 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2012100747294 申请日:20100914
2012-08-08	公开	公开
2017-11-03	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20100914 授权公告日:20141029 终止日期:20160914
2014-10-29	授权	授权

共 50 条

[1]

研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂以及基板研磨方法 [P].

龙崎大介 ;

成田武宪 ;

星阳介 ;

岩野友洋 .

中国专利 :CN102473622B ,2012-05-23

[2]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN104178088A ,2014-12-03

[3]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN107199502A ,2017-09-26

[4]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN105368397A ,2016-03-02

[5]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN102766407B ,2012-11-07

[6]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN102017091A ,2011-04-13

[7]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

福井宏佳 .

日本专利 :CN118435326A ,2024-08-02

[8]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN103396765A ,2013-11-20

[9]

研磨剂、研磨剂用储存液和研磨方法 [P].

花野真之 ;

西山雅也 ;

乡丰 ;

樱井治彰 ;

岩野友洋 .

中国专利 :CN107406752A ,2017-11-28

[10]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

中岛秀喜 ;

加藤知夫 ;

赤时正敏 ;

冈村有造 ;

岩本纮明 .

日本专利 :CN119768483A ,2025-04-04

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