一种用于无掩膜曝光的照明结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202120901890.9

申请日：

2021-04-28

公开(公告)号：

CN215297942U

公开(公告)日：

2021-12-24

发明(设计)人：

桂立

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市高新区浒杨路58号303室

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288

代理人：

葛燕婷

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于无掩膜曝光照明的角度调节机构 [P].

桂立 .

中国专利 :CN215297943U ,2021-12-24

[2]

一种用于无掩膜曝光的照明模组 [P].

桂立 .

中国专利 :CN113156777A ,2021-07-23

[3]

一种无掩膜曝光镜头 [P].

桂立 .

中国专利 :CN113156779A ,2021-07-23

[4]

无掩膜阻焊曝光机 [P].

平洁 .

中国专利 :CN205539931U ,2016-08-31

[5]

一种无掩膜曝光系统 [P].

丁海生 ;

李东昇 ;

马新刚 ;

江忠永 ;

张昊翔 .

中国专利 :CN202512361U ,2012-10-31

[6]

一种用于无掩膜曝光的投影模组 [P].

桂立 .

中国专利 :CN113156776A ,2021-07-23

[7]

多波长无掩膜曝光装置 [P].

张昌清 ;

李文静 ;

何少峰 ;

刘文海 .

中国专利 :CN202486497U ,2012-10-10

[8]

一种双光子无掩膜曝光系统 [P].

朱天宇 ;

梅文辉 ;

杜卫冲 .

中国专利 :CN211741831U ,2020-10-23

[9]

一种无掩膜曝光系统及其曝光方法 [P].

丁海生 ;

李东昇 ;

马新刚 ;

江忠永 ;

张昊翔 .

中国专利 :CN102621827B ,2012-08-01

[10]

用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机 [P].

桂立 ;

陆永杰 .

中国专利 :CN217238599U ,2022-08-19

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