曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置以及照明光学装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680005833.0

申请日：

2006-02-23

公开(公告)号：

CN101128917B

公开(公告)日：

2008-02-20

发明(设计)人：

市原裕中村绫子白石直正谷元昭一工藤祐司

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101654740760 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2006800058330 申请日:20060223 授权公告日:20111123 终止日期:20150223
2008-02-20	公开	公开
2008-04-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-11-23	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置及照明光学装置 [P].

白石直正 .

中国专利 :CN101566803B ,2009-10-28

[2]

光学单元、照明光学装置、曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101681120B ,2010-03-24

[3]

照明光学装置、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN102890425A ,2013-01-23

[4]

照明光学装置、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101410946A ,2009-04-15

[5]

照明光学装置的调整方法、照明光学装置、曝光装置以及曝光方法 [P].

谷津修 ;

广田弘之 ;

重松幸二 ;

栗田信一 .

中国专利 :CN101164142B ,2008-04-16

[6]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN103149806A ,2013-06-12

[7]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN101681117A ,2010-03-24

[8]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN103149807A ,2013-06-12

[9]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[10]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

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